반도체·디스플레이 재료 개발과 정밀 공정 기술로 전자재료산업 솔루션을 제공합니다.
ARCⓇ는 반도체 제조의 포토리소그래피 공정에서 사용되는 반사방지막이 됩니다. 포토레지스트의 하층에 코팅하여 노광시 발생하는 여러 문제를 해결할 수 있습니다.
NCK㈜와 닛산화학㈜은 i선용 ARCⓇ재료부터 최첨단 EUV 노광용 고기능성 하층막까지 폭넓은 제품을 제공함으로써 반도체 디바이스의 기술 혁신에 공헌하고 있습니다.
현재는 ARCⓇ 뿐만 아니라 다층 공정용 재료나 임시 붙임재등으로의 사업 전개도 도모하고 있습니다. 향후도 반도체의 미세화·고집적화의 진화에 맞추어 재료 개발을 진행해,
반도체 제조 공정에 필요 불가결한 재료를 지속적으로 제공해 오고 있습니다.
*ARC®는 Brewer Science, Inc.의 등록상표입니다
