ARC® coating = Bottom Anti-Reflective Coating material (반사방지코팅액)
반도체 제조 공정 (포토리소그래피(photolithography,寫眞製版)) 에 사용되는 액상 고분자 화합물로써, 포토레지스트 (photoresist) 의 하부 층에 코팅하여
반사방지막을 형성하는 방식으로, 반도체 패턴의 형성 시에 발생하는 여러가지 문제를 완화 또는 해결합니다.
엔씨케이㈜와 Nissan Chemical Corporation은 i선용 ARC® coating으로부터 최첨단의 ArF 이머전(액침)용 및 고기능성 ARC® coating까지
광범위의 선폭에 대응하는 제품을 갖추어 반도체 디바이스의 기술 혁신에 공헌하고 있습니다.
또한 ARC® coating뿐만이 아니라 다층 공정용 재료 및 임시 접착 재료 등의 사업에도 참여을 도모하여
반도체 제조 공정에 없어서는 안되는 재료를 지속적으로 제공하고 있습니다.
*ARC®는 Brewer Science, Inc.의 등록상표입니다.
ARC® coating 미적용
ARC® coating 적용
